有機(jī)廢氣處理技能-二氧化硫的生成

 

中心提示：有機(jī)廢氣處理技能-二氧化硫的生成：SO2徹底焚燒產(chǎn)品，它是因燃猜中的硫份焚燒時(shí)發(fā)生的， 其生成量徹底取決于燃猜中的含硫量。

 

有機(jī)廢氣處理技能-二氧化硫的生成：SO2徹底焚燒產(chǎn)品，它是因燃猜中的硫份焚燒時(shí)發(fā)生的， 其生成量徹底取決于燃猜中的含硫量。

 

***氣中的HC和NOx在陽(yáng)光紫外線效果下，經(jīng)過光化學(xué)反響 發(fā)生光化學(xué)煙霧。光化學(xué)反響是極端復(fù)雜的過程，圖2—6所示為 卡普蘭提出的光化學(xué)煙霧構(gòu)成的反響機(jī)理。

 

1.  NO和HC是反響的原因物質(zhì)。這些反響是同時(shí)發(fā)生的， 在許多情況下，一種反響的產(chǎn)品又參加另一反響，有時(shí)這些反響 又發(fā)生某些原始反響物，形成鏈反響。

 

2.  整個(gè)光化學(xué)鏈反響是從反響1開始的。反響1生成的NO2, 在陽(yáng)光紫外線的效果下，分解出活性強(qiáng)的原子氧（反響2)，然后 進(jìn)行反響3生成臭氧O3。如沒有陽(yáng)光的效果，反響1就進(jìn)行得很 緩慢。與此相反，在陽(yáng)光能的效果下，NO與***氣中的氧能較迅 速地構(gòu)成NO2,然后吸收光能，又生成氧原子和臭氧，從而***氣 中臭氧的濃度敏捷増加。因而，陽(yáng)光是反響進(jìn)行的關(guān)鍵因素。

 

3.  HC對(duì)煙霧的生成影響極***。在光化學(xué)反響過程中，只有 HC參與反響，才能維持較高濃度的O3。如果沒有HC參與，反響 2、3及5將很快達(dá)到平衡狀況，由于反響5是消耗O3的，這就使反 應(yīng)3發(fā)生的O3濃度很低。當(dāng)有HC時(shí)，反響7、8及9促使NO氧化成 NO2,這些反響比反響5快，故用掉了NO,從而抑制了反響5, 使反響3發(fā)生的O3不會(huì)被反響5消耗掉，所以O(shè)3的濃度增加。

 

有機(jī)廢氣處理技能-二氧化硫的生成

 

圖2—6光化學(xué)煙霧反響機(jī)理

 

hy——日光能；IT—垸基根；R0、一過氧烷基根；RCCT——敢基根； RCO*t—℃氧敢基根；RONO:—烷基硝酸鹽；RCO℃O: —復(fù)合過氧酰 基硝酸鹽；RCHD —醛。